PRO/E所提供的编辑命令功能强大,不但能对实体进行编辑,也可对曲面进行编辑;主要包括镜像、阵列、复制、合并、剪切,五种类型。 1.镜像功能:基本步骤 |
(1)选择需要镜像的部分,单击“镜像”工具 。如图1。 |
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图1 选择“镜像”对象 |
(2)选择参照平面,单击“确定”。如图2。 |
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图2 “镜像”曲面 |
2.阵列功能:阵列分为尺寸、方向、轴、参照、填充、表、曲线七种类型。 |
(1)轴阵列:基本步骤,选中所需要阵列的部分,单击“阵列”工具 ,选择基准轴,编辑数量以及每个实体之间的角度,如图3,单击“确定”。如图4。 |
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图3 选定阵列方式 |
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图4 轴阵列造型 |
(2)尺寸阵列:基本步骤,(1)选择需要阵列的实体,单击阵列工具,在弹出的操控板中选择“尺寸”。(2)选择阵列方向的尺寸数值,系统自动弹出修改增量数值的提示,据需要修改其值,(增量数值时阵列后每个实体之间的距离),输入阵列数值,确定方向,单击“确定”如图5。(阵列的方向可以用增量数值的正与负规定)(3)结果如图6。 |
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图5 尺寸阵列定位 |
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图6 尺寸阵列造型 |
注意:阵列总结如表7,其中三种形式的实例,选择不同形式,单击“选项”选择即可完成阵列,如图7。 |
表1 阵列的形式 |
形式 | 特性 | 相同 | 阵列出来的子特征都具有相同的尺寸 | 子特征的草绘平面以及参考平面都必须与父特征相同,也是所有的特征都要在同 一表面上 | 父特征若与其它特征有相交,则子特征也必须有相同的相交情况 | 子特征彼此之间不能有相交的情形 | 子特征必须完全在放置的平面范围内 | 由于子特征与父特征完全相同,故再生的速度是三者之中最快的 | 可变 | 子特征的尺寸可以改变 | 子特征可以放在不同的表面上 | 子特征彼此之间不能相交 | 子特征可以超出放置的平面范围内 | 再生的速度中等 | 一般 | 子特征的尺寸可以改变 | 子特征可以放在不同的表面上 | 子特征之间彼此可以相交 | 子特征可以超出放置的平面范围内 | 再生速度最慢 |
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